真空甩帶爐的組成結(jié)構(gòu) 　　真空甩帶爐的真空腔體是由爐體、爐蓋和爐底組成;爐體由304不銹鋼法蘭和內(nèi)外筒體組焊而成，內(nèi)壁鏡面拋光，爐體上開設(shè)有壓鑄接口、噴鑄接口、旋轉(zhuǎn)電極接口、甩帶收集管、紅外測溫接口、模具預(yù)熱電源電極引入接口;爐蓋由整體實心304加工而成，上面開設(shè)有大直徑觀察窗，可直觀的觀測到爐內(nèi)的各種實驗情況;爐底也是由整體實心304加工而成，固定有甩帶裝置。整體外觀啞光處理，整潔大方。 　　真空甩帶爐的熔煉裝置由超音頻電源、水冷電纜、旋轉(zhuǎn)電極、線圈、保溫套和坩堝組成，通過更換線圈、保溫套和坩堝實現(xiàn)不同容量。極限溫度可加熱至1700℃。(容量按照50g,200g,500g,1000g來配)，熔煉完成后可通過手動傾倒到模具內(nèi)。噴鑄裝置由氣缸、石英管、時間繼電器、氣源恒定裝置等組成，可實現(xiàn)小容量溶液的噴帶和噴鑄。 　　壓鑄裝置由特殊加壓裝置、壓架、底座、壓頭和母模等組成，當(dāng)溶液澆鑄或者噴鑄到母模內(nèi)，啟動加壓裝置對工件加壓，提高其致密性。真空甩帶爐的壓鑄底部壓頭有定位槽，保證上下壓頭同心度;底部壓頭可調(diào)節(jié)高度;整套壓力架支撐在地上。爐體底部有防漏盤，防止熔液損壞真空腔體。 　　模具預(yù)熱系統(tǒng)為防止?jié)茶T到母模內(nèi)的溶液冷卻過快，特在母模外部加裝感應(yīng)線圈預(yù)熱，由一臺7.5Kw IGBT超音頻電源、水冷銅接頭和線圈等組成，如果不用預(yù)熱，也可取下真空熔煉爐感應(yīng)線圈，用悶頭密封。預(yù)留有兩路進(jìn)出水，水流量可通過流量計來控制(專門用于水冷銅模)。抽真空系統(tǒng)由一臺擴(kuò)散泵、一臺雙極直聯(lián)泵、三臺氣動擋板閥、真空管路和真空計等組成，冷態(tài)極限真空度優(yōu)于6.67×10E-3Pa。爐體支架由型材和鋼板拼裝而成，門板全部采用數(shù)控加工，尺寸精度高，外表噴塑處理，整體布局合理，顏色搭配美觀。和電控柜采用一體結(jié)構(gòu)。

　　氣相沉積爐的結(jié)構(gòu)及工作原理　　氣相沉積爐（Gas Phase Deposition Furnace）是一種用于材料薄膜生長的實驗設(shè)備，常用于半導(dǎo)體、光電子、納米科技等領(lǐng)域。下面是氣相沉積爐的基本結(jié)構(gòu)和工作原理的簡要說明：　　氣相沉積爐結(jié)構(gòu)：　　氣相沉積爐通常由以下幾個主要組成部分構(gòu)成：　　1.反應(yīng)室（Reaction Chamber）：用于放置材料襯底（Substrate）以及執(zhí)行反應(yīng)的區(qū)域。反應(yīng)室通常是一個密封的金屬腔體，具有高溫抗腐蝕性能。　　2.加熱系統(tǒng)（Heating System）：用于提供反應(yīng)室內(nèi)的高溫環(huán)境。加熱系統(tǒng)通常采用電阻加熱或感應(yīng)加熱的方式，通過加熱元件（比如加熱線圈）提供熱源。　　3.氣體供應(yīng)系統(tǒng)（Gas Supply System）：用于控制和提供反應(yīng)室內(nèi)所需的氣體混合物。氣體供應(yīng)系統(tǒng)通常包括多個氣體進(jìn)口、流量控制器和混合裝置等。　　4.排氣系統(tǒng)（Exhaust System）：用于排除反應(yīng)室內(nèi)產(chǎn)生的廢氣和雜質(zhì)。排氣系統(tǒng)通常包括真空泵和廢氣處理裝置等。　　5.控制系統(tǒng)（Control System）：用于對爐子的溫度、氣體流量等參數(shù)進(jìn)行實時監(jiān)控和調(diào)節(jié)。　　氣相沉積爐工作原理：　　氣相沉積爐的工作原理是利用熱分解或化學(xué)反應(yīng)將氣體源中的原料分子在高溫環(huán)境下轉(zhuǎn)化為可沉積的材料薄膜。具體步驟如下：　　1.襯底放置：將待生長的襯底放置在反應(yīng)室中的加熱區(qū)域，通常通過夾持裝置固定。　　2.加熱預(yù)處理：加熱系統(tǒng)提供熱源，將反應(yīng)室內(nèi)的溫度升至所需的生長溫度。此過程通常在惰性氣氛下進(jìn)行，以排除氧氣和其他雜質(zhì)。　　3.氣體供應(yīng)和反應(yīng)：氣體供應(yīng)系統(tǒng)控制并提供所需的氣體混合物，其通過進(jìn)入反應(yīng)室與襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)或熱分解，產(chǎn)生可沉積的物種。　　4.材料沉積：沉積物種在襯底表面吸附并形成一層薄膜。其形貌、結(jié)構(gòu)和性質(zhì)可通過控制溫度、氣體流量和沉積時間等參數(shù)來調(diào)節(jié)。　　5.冷卻和取出：完成材料沉積后，可關(guān)閉氣體供應(yīng)和加熱系統(tǒng)，讓襯底緩慢冷卻。待冷卻至安全溫度后，可以取出生長的薄膜。　　需要注意的是，具體的氣相沉積爐工作原理會因不同類型的沉積方法（如化學(xué)氣相沉積、物理氣相沉積等）和所研究的材料而有所不同。上述僅為一般的工作原理示意，實際操作中需根據(jù)具體情況進(jìn)行參數(shù)調(diào)節(jié)和設(shè)備操作。